関西大学システム理工学部 機械工学科
ロボット・マイクロシステム研究室
Nanoscribe True 3D Laser Lithography
仕様(objective 63x, NA=1.4)
ナノスクライブ社のレーザ3次元造形システムを導入しました。装置の仕様は以下の通りです。
| 3D lateral feature size (IP-Dip) | 200 nm; typically 150 nm |
|---|---|
| 2D lateral resolution (IP-Dip) | 500 nm; typically 300 nm |
| Vertical resolution (IP-Dip) | 1000 nm; typically 800 nm |
| piezo range | 300 x 300 x 300 μm3 |
| writing speed piezo mode | typ. 100 μm/s |
| accessible writing area | up to 100 x 100 mm2 |
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